Hyrje në CVD TaC Coating:
CVD TaC Coating është një teknologji që përdor depozitimin kimik të avullit për të depozituar veshjen e karbitit të tantalit (TaC) në sipërfaqen e një nënshtrese. Karbidi i tantalit është një material qeramik me performancë të lartë me veti të shkëlqyera mekanike dhe kimike. Procesi CVD gjeneron një film uniform TaC në sipërfaqen e nënshtresës përmes reaksionit të gazit.
Karakteristikat kryesore:
Fortësi e shkëlqyer dhe rezistencë ndaj konsumit: Karbidi i tantalit ka fortësi jashtëzakonisht të lartë dhe Veshja CVD TaC mund të përmirësojë ndjeshëm rezistencën ndaj konsumit të nënshtresës. Kjo e bën veshjen ideale për aplikime në mjedise me konsum të lartë, të tilla si veglat prerëse dhe kallëpe.
Stabiliteti i temperaturës së lartë: Veshjet TaC mbrojnë komponentët kritikë të furrës dhe reaktorit në temperatura deri në 2200°C, duke demonstruar qëndrueshmëri të mirë. Ai ruan stabilitetin kimik dhe mekanik në kushte ekstreme të temperaturës, duke e bërë atë të përshtatshëm për përpunim në temperaturë të lartë dhe aplikime në mjedise me temperaturë të lartë.
Stabilitet i shkëlqyer kimik: Karbidi i tantalit ka rezistencë të fortë ndaj korrozionit ndaj shumicës së acideve dhe alkaleve, dhe veshja CVD TaC mund të parandalojë në mënyrë efektive dëmtimin e nënshtresës në mjedise gërryese.
Pika e lartë e shkrirjes: Karbidi i tantalit ka një pikë të lartë shkrirjeje (afërsisht 3880°C), duke lejuar që Veshja CVD TaC të përdoret në kushte ekstreme të temperaturës së lartë pa shkrirë ose degraduar.
Përçueshmëri e shkëlqyer termike: Veshja TaC ka përçueshmëri të lartë termike, e cila ndihmon në shpërndarjen efektive të nxehtësisë në proceset me temperaturë të lartë dhe parandalimin e mbinxehjes lokale.
Aplikacionet e mundshme:
• Komponentët e reaktorit CVD epitaksial të nitridit të galiumit (GaN) dhe karbitit të silikonit, duke përfshirë mbajtëset e vaferës, enët satelitore, kokat e dushit, tavanet dhe mbajtësit
• Komponentët e rritjes së kristalit karabit silikoni, nitridi i galiumit dhe nitridi i aluminit (AlN) duke përfshirë kristalet, mbajtëset e farave, unazat udhëzuese dhe filtrat
• Komponentët industrialë duke përfshirë elementët e ngrohjes me rezistencë, grykat e injektimit, unazat e maskimit dhe forcat e brumit
Karakteristikat e aplikimit:
• Temperatura e qëndrueshme mbi 2000°C, duke lejuar funksionimin në temperatura ekstreme
•Rezistent ndaj hidrogjenit (Hz), amoniakut (NH3), monosilanit (SiH4) dhe silicit (Si), duke siguruar mbrojtje në mjedise të ashpra kimike
• Rezistenca e tij ndaj goditjes termike mundëson cikle më të shpejta funksionimi
• Grafiti ka ngjitje të fortë, duke siguruar një jetë të gjatë shërbimi dhe pa shtrembërim të veshjes.
• Pastërti jashtëzakonisht e lartë për të eliminuar papastërtitë ose ndotësit e panevojshëm
• Mbulim konform me veshje deri në toleranca të ngushta dimensionale
Specifikimet teknike:
Përgatitja e veshjeve të dendura të karbitit të tantalit nga CVD：
Veshje TAC me kristalitet të lartë dhe uniformitet të shkëlqyeshëm:
Parametrat teknikë të VESHJES SË TAC CVD_Semicera:
| Vetitë fizike të veshjes TaC | |
| Dendësia | 14,3 (g/cm³) |
| Përqendrimi në masë | 8 x 1015/cm |
| Emisioni specifik | 0.3 |
| Koeficienti i zgjerimit termik | 6.3 10-6/K |
| Fortësia (HK) | 2000 HK |
| Rezistenca e madhe | 4,5 ohm-cm |
| Rezistenca | 1x10-5Ohm * cm |
| Stabiliteti termik | <2500℃ |
| Lëvizshmëria | 237 cm2/Vs |
| Ndryshon madhësia e grafitit | -10~-20um |
| Trashësia e veshjes | Vlera tipike ≥20um (35um+10um) |
Sa më sipër janë vlera tipike.
