Metoda PART/1CVD (Depozitimi kimik i avullit): Në 900-2300℃, duke përdorur TaCl5 dhe CnHm si burime tantal dhe karboni, H2 si atmosferë reduktuese, Ar2 si gaz bartës, film depozitimi reaksioni.Veshja e përgatitur është kompakte, uniforme dhe pastërti e lartë.Megjithatë, ka disa probleme...
Lexo më shumë