PJESA 1
Crucible, mbajtësja e farës dhe unaza udhëzuese në furrën me një kristal SiC dhe AIN u rritën me metodën PVT
Siç tregohet në figurën 2 [1], kur përdoret metoda fizike e transportit të avullit (PVT) për të përgatitur SiC, kristali i farës është në rajonin e temperaturës relativisht të ulët, lënda e parë e SiC është në rajonin e temperaturës relativisht të lartë (mbi 2400℃), dhe lënda e parë dekompozohet për të prodhuar SiXCy (kryesisht duke përfshirë Si, SiC₂, Si₂C, etj.).Materiali i fazës së avullit transportohet nga rajoni me temperaturë të lartë në kristalin e farës në rajonin me temperaturë të ulët, fformimi i bërthamave të farës, rritja dhe gjenerimi i kristaleve të vetme.Materialet e fushës termike të përdorura në këtë proces, si p.sh., unaza udhëzuese e rrjedhës, mbajtësi i kristalit të farës, duhet të jenë rezistente ndaj temperaturës së lartë dhe nuk do të ndotin lëndët e para të SiC dhe kristalet e vetme SiC.Në mënyrë të ngjashme, elementët ngrohës në rritjen e kristaleve të vetme AlN duhet të jenë rezistente ndaj avullit Al, N₂korrozioni, dhe duhet të ketë një temperaturë të lartë eutektike (me AlN) për të shkurtuar periudhën e përgatitjes së kristalit.
U zbulua se SiC[2-5] dhe AlN[2-3] të përgatitura ngaE veshur me TaCMaterialet e fushës termike të grafit ishin më të pastra, pothuajse pa karbon (oksigjen, azot) dhe papastërti të tjera, më pak defekte në skaj, rezistencë më të vogël në secilin rajon dhe densiteti i mikroporeve dhe densiteti i gropës së gdhendjes u reduktuan ndjeshëm (pas gdhendjes së KOH) dhe cilësia e kristalit u përmirësua shumë.Përveç kësaj,Crucible TaCShkalla e humbjes së peshës është pothuajse zero, pamja është jo-shkatërruese, mund të riciklohet (jeta deri në 200 orë), mund të përmirësojë qëndrueshmërinë dhe efikasitetin e një përgatitjeje të tillë me një kristal.
FIK.2. (a) Diagrami skematik i pajisjes për rritjen e shufrës me një kristal SiC me metodën PVT
(b) TopE veshur me TaCkllapa e farës (përfshirë farën SiC)
(c)Unazë udhëzuese grafiti e veshur me TAC
PJESA 2
Ngrohës i rritjes së shtresës epitaksiale MOCVD GaN
Siç tregohet në figurën 3 (a), rritja e MOCVD GaN është një teknologji e depozitimit kimik të avullit që përdor reaksionin e dekompozimit organometrik për të rritur filma të hollë nga rritja epitaksiale e avullit.Saktësia e temperaturës dhe uniformiteti në zgavër e bëjnë ngrohësin të bëhet komponenti kryesor më i rëndësishëm i pajisjeve MOCVD.Nëse nënshtresa mund të nxehet shpejt dhe në mënyrë uniforme për një kohë të gjatë (nën ftohje të përsëritur), qëndrueshmëria në temperaturë të lartë (rezistenca ndaj korrozionit të gazit) dhe pastërtia e filmit do të ndikojnë drejtpërdrejt në cilësinë e depozitimit të filmit, konsistencën e trashësisë, dhe performancën e çipit.
Për të përmirësuar performancën dhe efikasitetin e riciklimit të ngrohësit në sistemin e rritjes MOCVD GaN,E veshur me TACngrohës grafit u prezantua me sukses.Krahasuar me shtresën epitaksiale GaN të rritur me ngrohës konvencional (duke përdorur veshjen pBN), shtresa epitaksiale GaN e rritur nga ngrohësi TaC ka pothuajse të njëjtën strukturë kristalore, uniformitet trashësie, defekte të brendshme, doping nga papastërtitë dhe kontaminimi.Përveç kësaj,Veshje TaCka rezistencë të ulët dhe emetim të ulët të sipërfaqes, gjë që mund të përmirësojë efikasitetin dhe uniformitetin e ngrohësit, duke reduktuar kështu konsumin e energjisë dhe humbjen e nxehtësisë.Poroziteti i veshjes mund të rregullohet duke kontrolluar parametrat e procesit për të përmirësuar më tej karakteristikat e rrezatimit të ngrohësit dhe për të zgjatur jetën e tij të shërbimit [5].Këto avantazhe bëjnëE veshur me TaCNgrohësit me grafit një zgjedhje e shkëlqyer për sistemet e rritjes MOCVD GaN.
FIK.3. (a) Diagrami skematik i pajisjes MOCVD për rritjen epitaksiale GaN
(b) Ngrohës grafiti i veshur me TAC i derdhur i instaluar në konfigurimin MOCVD, duke përjashtuar bazën dhe kllapa (ilustrimi që tregon bazën dhe kllapa në ngrohje)
(c) Ngrohës grafiti i veshur me TAC pas rritjes epitaksiale 17 GaN.[6]
PJESA/3
Ngjitës i veshur për epitaksi (bartës i meshës)
Mbartësi i vaferës është një komponent i rëndësishëm strukturor për përgatitjen e vaferave SiC, AlN, GaN dhe të tjera gjysmëpërçuese të klasit të tretë dhe rritjes së vaferës epitaksiale.Shumica e bartësve të vaferës janë prej grafit dhe të veshura me veshje SiC për t'i rezistuar korrozionit nga gazrat e procesit, me një gamë temperaturash epitaksiale nga 1100 deri në 1600°C, dhe rezistenca ndaj korrozionit të veshjes mbrojtëse luan një rol vendimtar në jetën e mbajtësit të vaferës.Rezultatet tregojnë se shkalla e korrozionit të TaC është 6 herë më e ngadaltë se SiC në amoniak me temperaturë të lartë.Në hidrogjenin me temperaturë të lartë, shkalla e korrozionit është edhe më shumë se 10 herë më e ngadaltë se SiC.
Është vërtetuar nga eksperimentet se tabakatë e mbuluara me TaC tregojnë përputhshmëri të mirë në procesin GaN MOCVD të dritës blu dhe nuk sjellin papastërti.Pas rregullimeve të kufizuara të procesit, LED-të e rritur duke përdorur transportues TaC shfaqin të njëjtën performancë dhe uniformitet si transportuesit konvencional të SiC.Prandaj, jeta e shërbimit të paletave të veshura me TAC është më e mirë se ajo e bojës prej guri të zhveshur dheI veshur me SiCpaleta grafiti.
Koha e postimit: Mar-05-2024