Si një nga komponentët thelbësorë tëPajisje MOCVD, baza e grafit është bartës dhe trupi ngrohës i nënshtresës, i cili përcakton drejtpërdrejt uniformitetin dhe pastërtinë e materialit filmik, kështu që cilësia e tij ndikon drejtpërdrejt në përgatitjen e fletës epitaksiale, dhe në të njëjtën kohë, me rritjen e numrit të perdorimet dhe ndryshimi i kushteve te punes eshte shume i lehte per tu veshur, i perket materialeve harxhuese.
Megjithëse grafiti ka përçueshmëri dhe stabilitet të shkëlqyer termik, ai ka një avantazh të mirë si një komponent bazëPajisje MOCVD, por në procesin e prodhimit, grafiti do të gërryejë pluhurin për shkak të mbetjeve të gazeve gërryese dhe organikeve metalike, dhe jeta e shërbimit të bazës së grafitit do të reduktohet shumë.Në të njëjtën kohë, pluhuri i grafitit në rënie do të shkaktojë ndotje në çip.
Shfaqja e teknologjisë së veshjes mund të sigurojë fiksimin e pluhurit sipërfaqësor, të rrisë përçueshmërinë termike dhe të barazojë shpërndarjen e nxehtësisë, e cila është bërë teknologjia kryesore për të zgjidhur këtë problem.Baza e grafitit nëPajisje MOCVDmjedisi i përdorimit, veshja e sipërfaqes së bazës grafit duhet të plotësojë karakteristikat e mëposhtme:
(1) Baza e grafitit mund të mbështillet plotësisht, dhe dendësia është e mirë, përndryshe baza e grafitit është e lehtë për t'u gërryer në gazin gërryes.
(2) Forca e kombinimit me bazën e grafitit është e lartë për të siguruar që veshja të mos jetë e lehtë të bjerë pas disa cikleve të temperaturës së lartë dhe temperaturës së ulët.
(3) Ka stabilitet të mirë kimik për të shmangur dështimin e veshjes në temperaturë të lartë dhe atmosferë gërryese.
SiC ka avantazhet e rezistencës ndaj korrozionit, përçueshmëri të lartë termike, rezistencë ndaj goditjes termike dhe stabilitet të lartë kimik, dhe mund të funksionojë mirë në atmosferën epitaksiale GaN.Përveç kësaj, koeficienti i zgjerimit termik të SiC ndryshon shumë pak nga ai i grafitit, kështu që SiC është materiali i preferuar për veshjen sipërfaqësore të bazës së grafitit.
Aktualisht, SiC i zakonshëm është kryesisht i tipit 3C, 4H dhe 6H, dhe përdorimet e SiC të llojeve të ndryshme të kristaleve janë të ndryshme.Për shembull, 4H-SiC mund të prodhojë pajisje me fuqi të lartë;6H-SiC është më i qëndrueshëm dhe mund të prodhojë pajisje fotoelektrike;Për shkak të strukturës së tij të ngjashme me GaN, 3C-SiC mund të përdoret për të prodhuar shtresën epitaksiale GaN dhe për të prodhuar pajisje SiC-GaN RF.3C-SiC njihet zakonisht siβ-SiC, dhe një përdorim i rëndësishëm iβ-SiC është si një material filmi dhe veshjeje, praβ-SiC është aktualisht materiali kryesor për veshjen.
Koha e postimit: Nëntor-06-2023